隨著光電產業的蓬勃發展，各種光學薄膜陸續被開發出來。就涂布而言，這些光學薄膜產品的特點包括：

1.均勻度要求很高；

2.涂料黏度很低：涂料黏度可能<10cps；

3.厚度超?。?/span>

以抗反射膜為例，對單層涂布，當nd=λ/4 時，可得破壞性干涉，也就是反射率為0 ，其中n為涂層折射率，一般都在1~2 之間， d 為涂層厚度，λ為入射波波長， 介于400~700nm ，因此，涂層干膜厚度都小于0.2μm，可預期濕膜厚度可能低至1μm 。

因而要生產此類產品，就必須開發超薄涂布技術。圖一是各種可能的超薄涂布技術。

在成卷基材超薄涂布的各種可能方法中，將依續介紹微凹版印刷式涂布、張力基材擠壓式涂布、毛細管式涂布、水相表面展開式涂布等幾種方法；在非連續基材超薄涂布的各種可能方法中，旋轉涂布法(Spin Coating)為大家所熟知，擠壓式涂布法(Extrusion Coating)應用在LCD 光阻涂布，在此不多做說明，此一部分僅介紹液面彎曲式涂布。

以下即針對這些涂布方法加以說明。

因而要生產此類產品，就必須開發超薄涂布技術。

圖一是各種可能的超薄涂布技術。

在成卷基材超薄涂布的各種可能方法中，將依續介紹微凹版印刷式涂布、張力基材擠壓式涂布、毛細管式涂布、水相表面展開式涂布等幾種方法；

在非連續基材超薄涂布的各種可能方法中，旋轉涂布法(Spin Coating)為大家所熟知，擠壓式涂布法(Extrusion Coating)應用在LCD 光阻涂布，在此不多做說明，此一部分僅介紹液面彎曲式涂布。以下即針對這些涂布方法加以說明。

圖一

微凹版印刷式涂布

微凹版印刷式涂布是日本Yasui Seiki公司的專利技術，其結構如圖二(a)，與傳統凹版印刷式涂布（圖二(b)）相較，異同如下。

圖二(a)、圖二(b)